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Applied Materials与Intel合作加速AI芯片研发

1 篇正式报道1 条事件动态更新于 10月13日 20:32

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2026年10月13日,Applied Materials与Intel达成合作,共同加速面向AI计算的新一代半导体开发。据代表报道,双方合作聚焦晶体管、互连与先进封装,并将依托Applied Materials位于硅谷的EPIC中心与Intel俄勒冈州Hillsboro研发园区缩短开发周期,同时推进Intel基于Foveros的3D芯片堆叠封装技术。报道还称,EPIC中心计划于今年投入运营。目前尚无后续发展事实,事件状态停留在上述合作公布阶段。

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Applied Materials 与 Intel 联手推进 AI 芯片制造

事件进展

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  1. Applied Materials与Intel合作加速AI芯片研发

    来源:Analytics India Magazine

报道与讨论时间线

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10月13日

  1. Analytics India Magazine

    Applied Materials 与 Intel 联手推进 AI 芯片制造

    Applied Materials 与 Intel 达成合作,共同加速面向 AI 计算的新一代半导体开发,聚焦晶体管、互连与先进封装。双方将依托 Applied Materials 位于硅谷的 EPIC 中心与 Intel 俄勒冈州 Hillsboro 研发园区缩短开发周期,并推进 Intel 基于 Foveros 的 3D 芯片堆叠封装技术。EPIC 中心计划于今年投入运营。

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